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HY管式爐

回轉(zhuǎn)爐回轉(zhuǎn)管式爐氨分解工業(yè)管式爐 900系列三溫區(qū)管式爐 GLJZ-3-1200多工位旋轉(zhuǎn)管式爐開啟式立式管式爐1200℃ 開啟式立式管式爐1500℃ 1200℃三聚氯膠管式爐 1600℃三溫區(qū)高溫管式爐 1600℃雙溫區(qū)高溫氣氛管式爐 1200℃五溫區(qū)開啟式管式爐 1200℃小型開啟式真空管式爐 1400℃三溫區(qū)管式爐 1700℃精密真空氣氛管式爐開啟式管式爐

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1400℃三溫區(qū)管式爐

更新時(shí)間：2021-03-06

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1400℃三溫區(qū)管式爐采用智能化程序溫控系統(tǒng)，可控硅控制，控溫精度高；高真空級法蘭密封，結(jié)合我司標(biāo)準(zhǔn)真空、混氣系統(tǒng)，可抽真空通氣氛；以優(yōu)質(zhì)硅碳棒為加熱元件，采用智能化控溫系統(tǒng)，可控硅控制，控溫精度高；爐腔采用日本技術(shù)真空吸附成型的優(yōu)質(zhì)1600型氧化鋁多晶體纖維無機(jī)材料拼搭結(jié)構(gòu)，長期使用不斷裂、垮塌；爐體為雙層爐殼，配有風(fēng)冷系統(tǒng)，有效保證外殼表面溫度；內(nèi)置三個溫區(qū)，可營造不同的溫度梯度。
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1700℃精密真空氣氛管式爐

更新時(shí)間：2020-11-20

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1700℃精密真空氣氛管式爐采用觸摸屏控制系統(tǒng)，一鍵智能化操作，圖文界面操作更便捷；高真空級法蘭密封，結(jié)合我司標(biāo)準(zhǔn)真空、混氣系統(tǒng)，可抽真空通氣氛。適用于高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結(jié)、氣氛還原、CVD實(shí)驗(yàn)、真空退火等。
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1200開啟式管式爐

更新時(shí)間：2020-11-20

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開啟式管式爐在真空壓力下，加在電感線圈的射頻電場，使反應(yīng)室氣體發(fā)生輝光放電，在輝光發(fā)電區(qū)域產(chǎn)生大量的電子。這些電子在電場的作用下獲得充足的能量，其本身溫度很高，它與氣體分子相碰撞，使氣體分子活化。它們吸附在襯底上，并發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成介質(zhì)膜，副產(chǎn)物從襯底上解吸，隨主氣流由真空泵抽走，稱為等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉（PECVD）。
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